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Artículo

Heterogeneous reservoir computing in second-order Ta 2 O 5 /HfO 2 memristors

Ghenzi, NéstorIcon ; Park, Tae Won; Kim, Seung Soo; Kim, Hae Jin; Jang, Yoon Ho; Woo, Kyung Seok; Hwang, Cheol Seong
Fecha de publicación: 12/2023
Editorial: Royal Society of Chemistry
Revista: Nanoscale Horizons
ISSN: 2055-6756
e-ISSN: 2055-6764
Idioma: Inglés
Tipo de recurso: Artículo publicado
Clasificación temática:
Física de los Materiales Condensados

Resumen

Multiple switching modes in a Ta2O5/HfO2 memristor are studied experimentally and numerically through a reservoir computing (RC) simulation to reveal the importance of nonlinearity and heterogeneity in the RC framework. Unlike most studies, where homogeneous reservoirs are used, heterogeneity is introduced by combining different behaviors of the memristor units. The chosen memristor for the reservoir units is based on a Ta2O5/HfO2 bilayer, in which the conductances of the Ta2O5 and HfO2 layers are controlled by the oxygen vacancies and deep/shallow traps, respectively, providing both volatile and non-volatile resistive switching modes. These several control parameters make the second-order Ta2O5/HfO2 memristor system present different behaviors in agreement with its history-dependent conductance and allow the fine-tuning of the behavior of each reservoir unit. The heterogeneity in the reservoir units improves the pattern recognition performance in the heterogeneous memristor RC system with a similar physical structure.
Palabras clave: memristor , reservoir computing , machine learning , material
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info:eu-repo/semantics/restrictedAccess Excepto donde se diga explícitamente, este item se publica bajo la siguiente descripción: Creative Commons Attribution-NonCommercial-ShareAlike 2.5 Unported (CC BY-NC-SA 2.5)
Identificadores
URI: http://hdl.handle.net/11336/267237
URL: https://xlink.rsc.org/?DOI=D3NH00493G
DOI: http://dx.doi.org/10.1039/D3NH00493G
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Citación
Ghenzi, Néstor; Park, Tae Won; Kim, Seung Soo; Kim, Hae Jin; Jang, Yoon Ho; et al.; Heterogeneous reservoir computing in second-order Ta 2 O 5 /HfO 2 memristors; Royal Society of Chemistry; Nanoscale Horizons; 9; 3; 12-2023; 427-437
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