Degradación de Oxyfluorfen mediante fotólisis directa y procesos Fenton
; Miskoski, Sandra
; Massad, Walter Alfredo 
Otros responsables
Fecha
2019
Editorial
Universidad Nacional de Tucumán. Facultad de Bioquímica Química y Farmacia
Revista
Título del libro
Nombre del evento
XXI Congreso Argentino de Fisicoquímica y Química Inorgánica
Fecha del evento
2019-04-14
Institución organizadora
Asociación Argentina de Investigación Fisicoquimica
Universidad Nacional de Tucumán. Facultad de Bioquímica Química y Farmacia
Universidad Nacional de Tucumán. Facultad de Bioquímica Química y Farmacia
ISSN
eISSN
ISBN
978-987-754-185-4
Idioma
Español
Tipo del evento
Congreso
Clasificación temática
Palabras clave
Resumen
Oxyfluorfen (cloro-α,α,α-trifluor-p-tolil-(3-etoxi-4-nitrofenil) éter, (OXF)) es un herbicida con núcleo difenil éter y es utilizado para el control de monocotiledóneas y malezas de hoja ancha en soja, girasol, maní, cítricos, etc. el mismo requiere de la presencia de luz para exhibir actividad fitotóxica. Es considerado muy tóxico para los organismos acuáticos y su solubilidad en agua es de 0,1 mg/L. Todos estos antecedentes acrecientan el interés por el estudio de la degradación de OXF mediante procesos Fenton y FotoFenton, orientados al tratamiento de efluentes previo a su incorporación al medioambiente, lo que ha constituido el objetivo central de este trabajo. Uno de los inconvenientes de estos procesos es su aplicación a sustancias poco solubles en agua como es el caso de OXF. Para subsanar este inconveniente y no utilizar medios con solventes orgánicos, se realizaron estudios de solubilidad en solución acuosa de Hidroxipropil beta ciclodextrina (HP-β-CD), para poder utilizarlo como medio de disolución de OXF en los procesos de degradación. Los estudios de solubilidad dieron como resultado que OXF se asocia a la HP-β-CD (1:1) con un valor de Kas igual a (210 ± 10) Mˉ¹. Con respecto a las experiencias de fotólisis directa y FotoFenton se realizaron utilizando un reactor Rayonet con 12 lámparas de 12 W cada una, con emisión a 364 nm. La reacción se monitoreo mediante HPLC con detector UV. La k´ de descomposición de OXF, es de orden cero en FotoFenton y pseudo primer orden para la fotólisis a 364 nm. Con respecto al proceso Fenton no se observaron cambios en la concentración de OXF en un período de 8 horas. De las experiencias realizadas se puede concluir que OXF se degrada con mayor eficiencia por el proceso de FotoFenton. La utilización de HP-β-CD en los procesos, hace que se amigable con el medio ambiente al no utilizar medios con solventes orgánicos y agua.
Colecciones
Aprobación
Revisión
Complementado por
Referenciado por
Licencia Creative Commons
Excepto donde se indique lo contrario, la licencia de este ítem se describe como by-nc-sa
