Aplicación de Fotocatalizadores Obtenidos a partir de Ácido Tungstofosfórico sobre NH4ZSM5 en Remediación de Aguas Contaminadas
; Lerici, Laura Carolina
; Fermanelli, Carla Soledad
; Saux, Clara
; Pierella, Liliana Beatriz
; Pizzio, Luis Rene 
Otros responsables
Fecha
2016
Editorial
Universidad Tecnológica Nacional. Facultad Regional Rosario. Secretaría de Ciencia y Tecnología
Revista
Título del libro
Nombre del evento
CIPP 2016: II Congreso de Ingeniería de Procesos y de Productos
Fecha del evento
2016-03-30
Institución organizadora
Universidad Tecnológica Nacional. Facultad Regional Rosario. Secretaría de Ciencia y Tecnología
ISSN
eISSN
ISBN
978-950-42-0170-0
Idioma
Español
Tipo del evento
Congreso
Clasificación temática
Palabras clave
Resumen
Se prepararon materiales a partir de la inmovilización de ácido tungstofosfórico sobre zeolita NH4ZSM5 mediante impregnación húmeda para ser aplicados en la degradación de moléculas representativas de contaminantes presentes en efluentes empleando fotocatálisis heterogénea. La concentración de ácido tunstofosfórico incorporada fue de 10 y 30% p/p en el sólido obtenido. Los materiales se caracterizaron mediante diferentes técnicas fisicoquímicas. El área superficial disminuyó respecto de la matriz sin modificar como resultado de bloqueo de los poros de la zeolita. Los patrones de difracción de rayos X de las muestras modificadas presentaron los picos característicos de zeolita NH4ZSM5 y un conjunto de picos adicionales asignados a la presencia de la sal (NH4)3[PW12O40]. Además, las muestras exhibieron valores de band gap similares a los reportados para los semiconductores más estudiados. Se obtuvieron catalizadores con elevada actividad fotocatalítica en las moléculas de estudio.
Tungstophosphoric acid inmobilized on NH4ZSM5 zeolite were prepared by the wet impregnation technique for their application as catalyst in photocatalytic degradation reactions of representative molecules of pollutants present in effluents. Tungstophosphoric acid concentrations in the solid were 10 and 30 w/w %, respectively. These materials were characterized by different physicochemical techniques in order to determine their properties. When tungstophophoric acid content was increased, surface area decreased with respect to the unmodified matrix as result of the blockage of the zeolite´s pores. XRD patterns of the modified solids, showed NH4ZSM5 characteristic peaks and new signals assigned to (NH4)3[PW12O40] salt. Moreover, the samples exhibited similar band gap values to those reported for the most studied semiconductors. According to catalytic results, the obtained materials resulted adequate photocatalysts for the studied molecules degradation.
Tungstophosphoric acid inmobilized on NH4ZSM5 zeolite were prepared by the wet impregnation technique for their application as catalyst in photocatalytic degradation reactions of representative molecules of pollutants present in effluents. Tungstophosphoric acid concentrations in the solid were 10 and 30 w/w %, respectively. These materials were characterized by different physicochemical techniques in order to determine their properties. When tungstophophoric acid content was increased, surface area decreased with respect to the unmodified matrix as result of the blockage of the zeolite´s pores. XRD patterns of the modified solids, showed NH4ZSM5 characteristic peaks and new signals assigned to (NH4)3[PW12O40] salt. Moreover, the samples exhibited similar band gap values to those reported for the most studied semiconductors. According to catalytic results, the obtained materials resulted adequate photocatalysts for the studied molecules degradation.
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