SiF4 IR Photodissociation: Gas phase reactions of SiF3 with CH4

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dc.conicet.fuenteindividual
dc.conicet.organizacionUniversidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física
dc.conicet.organizacionConsejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Instituto de Investigaciones Científicas y Técnicas para la Defensa. Centro de Investigación en Láseres y Aplicaciones
dc.conicet.organizacionConsejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Instituto de Investigaciones Científicas y Técnicas para la Defensa. Centro de Investigación en Láseres y Aplicaciones
dc.conicet.paisOrganizacionArgentina
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dc.conicet.produccionid6307016
dc.contributor.authorAlcaraz, A. N.
dc.contributor.authorCodnia, Jorge
dc.contributor.authorAzcárate, María Laura
dc.date.accessioned2019-08-22T22:20:56Z
dc.date.available2019-08-22T22:20:56Z
dc.date.issued2009-06
dc.date.updated2019-08-22T13:19:57Z
dc.description.abstractThe infrared multiphoton dissociation (IRMPD) of SiF4 in the presence of CH4 has been studied using a tunable CO2 TEA laser. The siliconated reaction products have been identified. A kinetic scheme has been proposed to explain the experimental results. The reaction rate constant of the trifluorosilyl radical, SiF3, with CH4 has been obtained from the numerical solution of the differential equation system associated to the kinetic mechanism proposed as well as from non-linear regression methods. It has been additionally found that this reaction occurs through two channels. The relative importance of each and their reaction rate constants have been determined as well.es
dc.description.filFil: Alcaraz, A. N.. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física; Argentina
dc.description.filFil: Codnia, Jorge. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Instituto de Investigaciones Científicas y Técnicas para la Defensa. Centro de Investigación en Láseres y Aplicaciones; Argentina
dc.description.filFil: Azcárate, María Laura. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Instituto de Investigaciones Científicas y Técnicas para la Defensa. Centro de Investigación en Láseres y Aplicaciones; Argentina
dc.formatapplication/pdfes
dc.identifier.citationAlcaraz, A. N.; Codnia, Jorge; Azcárate, María Laura; SiF4 IR Photodissociation: Gas phase reactions of SiF3 with CH4; Elsevier Science Sa; Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry; 205; 2-3; 6-2009; 79-83es
dc.identifier.institucionalCONICET
dc.identifier.issn1010-6030es
dc.identifier.repoCONICET Digital
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11336/82011
dc.journal.ciudadAmsterdames
dc.journal.number2-3es
dc.journal.pagination79-83es
dc.journal.paisPaíses Bajoses
dc.journal.titleJournal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistryes
dc.journal.volume205es
dc.language.isoenges
dc.publisherElsevier Science Saes
dc.relation.alternativeidinfo:eu-repo/semantics/altIdentifier/url/https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S1010603009001488
dc.relation.alternativeidinfo:eu-repo/semantics/altIdentifier/doi/https://doi.org/10.1016/j.jphotochem.2009.04.009
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess*
dc.rights.urihttps://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar/*
dc.subjectInfrared Multiphoton Dissociationes
dc.subjectReaction Ratees
dc.subjectSilicon Tetrafluoridees
dc.subjectTrifluorosilyles
dc.subject.classificationFísico-Química, Ciencia de los Polímeros, Electroquímicaes
dc.subject.classificationCiencias Químicases
dc.subject.classificationCIENCIAS NATURALES Y EXACTASes
dc.titleSiF4 IR Photodissociation: Gas phase reactions of SiF3 with CH4es
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/article
dc.typeinfo:ar-repo/semantics/artículo
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersion

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