Crecimiento y caracterización de películas delgadas de tio2 y ti1- xfexo2

Volver a la Vista simple
dc.conicet.organizacionUniversidad de Antioquia
dc.conicet.organizacionConsejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Centro Científico Tecnológico Conicet - Santa Fe. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química. Universidad Nacional del Litoral. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química
dc.conicet.organizacionUniversidad de Antioquia
dc.conicet.organizacionUniversidad de Antioquia
dc.conicet.organizacionUniversidad de Antioquia
dc.conicet.organizacionUniversidad de Antioquia
dc.conicet.organizacionUniversidad de Antioquia
dc.conicet.organizacionUniversidad del Quindío
dc.conicet.organizacionUniversidad del Quindío
dc.conicet.organizacionUniversidad de Antioquia
dc.conicet.paisOrganizacionColombia
dc.conicet.paisOrganizacionArgentina
dc.conicet.paisOrganizacionColombia
dc.conicet.paisOrganizacionColombia
dc.conicet.paisOrganizacionColombia
dc.conicet.paisOrganizacionColombia
dc.conicet.paisOrganizacionColombia
dc.conicet.paisOrganizacionColombia
dc.conicet.paisOrganizacionColombia
dc.conicet.paisOrganizacionColombia
dc.conicet.produccionid6311732
dc.contributor.authorGalvis, J.
dc.contributor.authorRamirez Jimenez, Helena
dc.contributor.authorMontes, J.
dc.contributor.authorSanchez, L.
dc.contributor.authorBeltran, J.
dc.contributor.authorBarrero, C.
dc.contributor.authorMorales, A.
dc.contributor.authorGomez, J.
dc.contributor.authorTirado Mejia, L.
dc.contributor.authorOsorio, J.
dc.date.accessioned2017-05-30T14:32:00Z
dc.date.available2017-05-30T14:32:00Z
dc.date.issued2009-07
dc.date.updated2017-05-22T14:04:01Z
dc.description.abstractTitanium dioxide (TiO2) and Fe-doped titanium dioxide (Ti1-xFexO2) thin films were grown on silicon substrates using the magnetron sputtering Rf (13.56 MHz) technique. The relevant growth parameters for the samples (pressure, power, gas mixture ratio, distance between target-substrate, among others) were found. The plasma deposition environment for the ternary films was characterized by optical emission spectroscopy in order to verify and identify the present species which were iron and titanium. The TiO2 films, deposited on silicon substrates [100], showed an amorphous phase while the ternary films showed low crystallinity. After annealing at 800 °C crystalline phases appeared, rutile in binary films and mixed in ternary films.es
dc.description.filFil: Galvis, J.. Universidad de Antioquia; Colombia
dc.description.filFil: Ramirez Jimenez, Helena. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Centro Científico Tecnológico Conicet - Santa Fe. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química. Universidad Nacional del Litoral. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química; Argentina
dc.description.filFil: Montes, J.. Universidad de Antioquia; Colombia
dc.description.filFil: Sanchez, L.. Universidad de Antioquia; Colombia
dc.description.filFil: Beltran, J.. Universidad de Antioquia; Colombia
dc.description.filFil: Barrero, C.. Universidad de Antioquia; Colombia
dc.description.filFil: Morales, A.. Universidad de Antioquia; Colombia
dc.description.filFil: Gomez, J.. Universidad del Quindío; Colombia
dc.description.filFil: Tirado Mejia, L.. Universidad del Quindío; Colombia
dc.description.filFil: Osorio, J.. Universidad de Antioquia; Colombia
dc.formatapplication/pdfes
dc.identifier.citationGalvis, J.; Ramirez Jimenez, Helena; Montes, J.; Sanchez, L.; Beltran, J.; et al.; Crecimiento y caracterización de películas delgadas de tio2 y ti1- xfexo2; Universidad Simón Bolívar; Revista Latinoamericana de Metalurgia y Materiales; S1; 3; 7-2009; 975-983es
dc.identifier.issn0255-6952
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11336/17099
dc.journal.number3es
dc.journal.pagination975-983es
dc.journal.paisVenezuelaes
dc.journal.titleRevista Latinoamericana de Metalurgia y Materialeses
dc.journal.volumeS1es
dc.language.isospaes
dc.publisherUniversidad Simón Bolívares
dc.relation.alternativeidinfo:eu-repo/semantics/altIdentifier/url/https://www.google.com.ar/url?sa=t&rct=j&q=&esrc=s&source=web&cd=1&cad=rja&uact=8&ved=0ahUKEwjtiJPs6ZfUAhUBi5AKHX9yCKQQFgglMAA&url=http%3A%2F%2Fwww.rlmm.org%2Farchives.php%3Ff%3D%2Farchivos%2FS01%2FN3%2FRLMMArt-09S01N3-p975.pdf&usg=AFQjCNE5vSKtn5XS5TYBapN9FdThRpFt4g&sig2=hOe6wfur9njelL64cEkyAw
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess*
dc.rights.urihttps://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar/es
dc.subjectFilmses
dc.subjectSputteringes
dc.subjectSpintronices
dc.subjectPhotocatalystes
dc.subjectMagnetoelectronices
dc.subject.classificationRecubrimientos y Películases
dc.subject.classificationIngeniería de los Materialeses
dc.subject.classificationINGENIERÍAS Y TECNOLOGÍASes
dc.titleCrecimiento y caracterización de películas delgadas de tio2 y ti1- xfexo2es
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/article
dc.typeinfo:ar-repo/semantics/artículo
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersion

Archivos

Bloque original

Miniatura
Nombre:
CONICET_Digital_Nro.20858.pdf
Tamaño:
887.77 KB
Formato:
Adobe Portable Document Format
Descargar

Colecciones

Articulos(INTEC)
Volver a la Vista simple