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Formation of pyramidal etch hillocks in a Kossel crystal

 Suárez, M. P. ; Mirabella, Maria Cristina ; Aldao, Celso Manuel Icon

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Fecha

2005-11-10

Editorial

Elsevier Science

Revista

Surface Science

Título del libro

Nombre del evento

Fecha del evento

Institución organizadora

ISSN

0039-6028

eISSN

ISBN

Idioma

Inglés

Tipo del evento

Clasificación temática

Palabras clave

Monte Carlo Simulations , Scanning Electron Microscopy , Etching , Surface Structure , Morphology , Roughness And Topography , Silicon , Koh

Resumen

Surface roughening due to anisotropic etching was studied experimentally and modeled using the Monte Carlo method for a Kossel crystal.  Simulations were used to explore a possible formation mechanism for the appearance of etch hillocks in two and three dimensions.  Similarities with pyramidal etch hillocks that are regularly observed in anisotropic etching of Si(100) are discussed.

URI

http://hdl.handle.net/11336/28057

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Identificadores
URI: http://hdl.handle.net/11336/28057
DOI: http://dx.doi.org/10.1016/j.susc.2005.10.011
URL: http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0039602805011337
Citación
Suárez, M. P.; Mirabella, Maria Cristina; Aldao, Celso Manuel; Formation of pyramidal etch hillocks in a Kossel crystal; Elsevier Science; Surface Science; 599; 1-3; 10-11-2005; 221-229
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