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dc.contributor.author
Ruano Sandoval, Gonzalo Javier
dc.contributor.author
Moreno López, Juan Carlos
dc.contributor.author
Passeggi, Mario Cesar Guillermo
dc.contributor.author
Vidal, Ricardo Alberto
dc.contributor.author
Ferron, Julio
dc.contributor.author
Niño, M. A.
dc.contributor.author
Miranda, R.
dc.contributor.author
de Miguel, J. J.
dc.date.available
2016-12-05T15:10:52Z
dc.date.issued
2013-09
dc.identifier.citation
Ruano Sandoval, Gonzalo Javier; Moreno López, Juan Carlos; Passeggi, Mario Cesar Guillermo; Vidal, Ricardo Alberto; Ferron, Julio; et al.; Morfología y estabilidad térmica de películas delgadas de fluoruro de aluminio sobre Cu(100); Asociación Física Argentina; Anales Afa; 23; 2; 9-2013; 108-115
dc.identifier.issn
0327-358X
dc.identifier.uri
http://hdl.handle.net/11336/8765
dc.description.abstract
Se estudió el crecimiento de películas epitaxiales ultra-delgadas de fluoruro de aluminio en Cu (100) mediante una combinación de técnicas experimentales de física de superficies. La deposición a temperatura ambiente resulta en la decoración de escalones seguida por la formación de islas dendríticas bidimensionales que coalescen para formar películas porosas. Las películas ultra-delgadas (de hasta dos monocapas de espesor) resultan morfológicamente inestables al calentar; parte de la película deja de mojar la superficie del sustrato a alrededor de 430 K con la formación de islas tridimensionales y dejando expuesta un área extensa de la superficie de Cu. En cambio, películas de varios nanómetros de espesor son estables hasta temperaturas cercanas a los 730 K cuando ocurre la desorción molecular. El efecto de la irradiación electrónica también ha sido caracterizado mediante diferentes técnicas espectroscópicas; encontrando que incluso dosis de irradiación reducidas de electrones pueden producir una descomposición significativa del fluoruro de aluminio, resultando en la liberación de moléculas de flúor y la formación de aluminio metálico. Estas características hacen del fluoruro de aluminio un material interesante para aplicaciones en espintrónica.
dc.format
application/pdf
dc.language.iso
spa
dc.publisher
Asociación Física Argentina
dc.rights
info:eu-repo/semantics/openAccess
dc.rights.uri
https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar/
dc.subject
Microscopia Túnel de Barrido
dc.subject
Fluoruro de Aluminio
dc.subject
Películas Ultra-Delgadas
dc.subject
Estabilidad Térmica
dc.subject.classification
Física de los Materiales Condensados
dc.subject.classification
Ciencias Físicas
dc.subject.classification
CIENCIAS NATURALES Y EXACTAS
dc.title
Morfología y estabilidad térmica de películas delgadas de fluoruro de aluminio sobre Cu(100)
dc.title
Morphology and thermal stability of alf3 on Cu(100) thin films
dc.type
info:eu-repo/semantics/article
dc.type
info:ar-repo/semantics/artículo
dc.type
info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.date.updated
2016-12-02T16:00:23Z
dc.journal.volume
23
dc.journal.number
2
dc.journal.pagination
108-115
dc.journal.pais
Argentina
dc.journal.ciudad
Tandil
dc.description.fil
Fil: Ruano Sandoval, Gonzalo Javier. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Centro Científico Tecnológico Santa Fe. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (i); Argentina
dc.description.fil
Fil: Moreno López, Juan Carlos. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Centro Científico Tecnológico Santa Fe. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (i); Argentina
dc.description.fil
Fil: Passeggi, Mario Cesar Guillermo. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Centro Científico Tecnológico Santa Fe. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (i); Argentina
dc.description.fil
Fil: Vidal, Ricardo Alberto. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Centro Científico Tecnológico Santa Fe. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (i); Argentina
dc.description.fil
Fil: Ferron, Julio. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Centro Científico Tecnológico Santa Fe. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (i); Argentina
dc.description.fil
Fil: Niño, M. A.. Universidad Autónoma de Madrid; España
dc.description.fil
Fil: Miranda, R.. Universidad Autónoma de Madrid; España
dc.description.fil
Fil: de Miguel, J. J.. Universidad Autónoma de Madrid; España
dc.journal.title
Anales Afa
dc.relation.alternativeid
info:eu-repo/semantics/altIdentifier/url/http://anales.fisica.org.ar/journal/index.php/analesafa/article/view/1057
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