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Artículo

Band gap tuning of layered III-Te materials

Olmos Asar, Jimena AnahíIcon ; Rocha Leão, Cedric; Fazzio, Adalberto
Fecha de publicación: 07/2018
Editorial: American Institute of Physics
Revista: Journal of Applied Physics
ISSN: 0021-8979
e-ISSN: 1089-7550
Idioma: Inglés
Tipo de recurso: Artículo publicado
Clasificación temática:
Física de los Materiales Condensados

Resumen

Gallium telluride is a layered material with high photoresponse and is very promising for applications in optoelectronic devices such as photovoltaic cells or radiation detectors. We analyze how the properties of thin films of this material scale with its thickness and also study two other proposed materials with the same crystalline structure whose room-temperature stability we verify. We show that electronic band gaps up to 2.16 eV can be obtained by stacking up and/or applying perpendicular electric field to these III-Te monolayers. This form of band gap engineering may be promising for several technological applications.
Palabras clave: GaTe , Optoelectronic devices , Van der Waals heterostructures , Band gap tuning
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info:eu-repo/semantics/openAccess Excepto donde se diga explícitamente, este item se publica bajo la siguiente descripción: Creative Commons Attribution-NonCommercial-ShareAlike 2.5 Unported (CC BY-NC-SA 2.5)
Identificadores
URI: http://hdl.handle.net/11336/86335
URL: http://aip.scitation.org/doi/10.1063/1.5021259
DOI: http://dx.doi.org/10.1063/1.5021259
Colecciones
Articulos(INFIQC)
Articulos de INST.DE INVESTIGACIONES EN FISICO- QUIMICA DE CORDOBA
Citación
Olmos Asar, Jimena Anahí; Rocha Leão, Cedric; Fazzio, Adalberto; Band gap tuning of layered III-Te materials; American Institute of Physics; Journal of Applied Physics; 124; 4; 7-2018; 45104-45104
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