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Artículo

In situ electrical characterization of palladium-based single electron transistors made by electromigration technique

Arzubiaga, L.; Golmar, FedericoIcon ; Llopis, R.; Casanova, F.; Hueso, Luis E.
Fecha de publicación: 11/2014
Editorial: American Institute of Physics
Revista: AIP Advances
ISSN: 2158-3226
Idioma: Inglés
Tipo de recurso: Artículo publicado
Clasificación temática:
Otras Ciencias Físicas

Resumen

We report the fabrication of single electron transistors (SETs) by feedback-controlled electromigration of palladium and palladium-nickel alloy nanowires. We have optimized a gradual electromigration process for obtaining devices consisting of three terminals (source, drain and gate electrodes), which are capacitively coupled to a metallic cluster of nanometric dimensions. This metal nanocluster forms into the inter-electrode channel during the electromigration process and constitutes the active element of each device, acting as a quantum dot that rules the electron flow between source and drain electrodes. The charge transport of the as-fabricated devices shows Coulomb blockade characteristics and the source to drain conductance can be modulated by electrostatic gating. We have thus achieved the fabrication and in situ measurement of palladium-based SETs inside a liquid helium cryostat chamber.
Palabras clave: Electromigration Technique , Single Electron Transistors (Sets)
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info:eu-repo/semantics/openAccess Excepto donde se diga explícitamente, este item se publica bajo la siguiente descripción: Creative Commons Attribution-NonCommercial-ShareAlike 2.5 Unported (CC BY-NC-SA 2.5)
Identificadores
URI: http://hdl.handle.net/11336/44922
DOI: http://dx.doi.org/10.1063/1.4902170
URL: https://aip.scitation.org/doi/10.1063/1.4902170
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Citación
Arzubiaga, L.; Golmar, Federico; Llopis, R.; Casanova, F.; Hueso, Luis E.; In situ electrical characterization of palladium-based single electron transistors made by electromigration technique; American Institute of Physics; AIP Advances; 4; 11; 11-2014; 1-7; 117126
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