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Artículo

Hillock sizes after wet etching in silicon

Mirabella, D. A.; Suarez, Maria PatriciaIcon ; Aldao, Celso ManuelIcon
Fecha de publicación: 09/2009
Editorial: Elsevier Science
Revista: Surface Science
ISSN: 0039-6028
Idioma: Inglés
Tipo de recurso: Artículo publicado
Clasificación temática:
Otras Ciencias Químicas

Resumen

The formation of two- and three-dimensional hillocks is regularly observed in Si(1 1 1) steps and Si(1 0 0) during wet etching. Frequently the resulting morphology consists of hillocks scattered on a landscape of limited roughness. Recently we proposed a mean field model (MFM) in which the observed hillock-and-valley pattern is possible under steady state if hillock etching is slightly faster than valley etching. This condition implies that hillock size distributions must be an exponential decreasing function. In this work, we report a systematic study of hillock size distributions of experimental morphologies obtained under different etchant concentrations in Si(1 0 0). We found that experimental hillock size distributions are in agreement with those predicted by the MFM.
Palabras clave: Monte Carlo Simulations , Etching , Surface Structure , Morphology , Roughness And Topography
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info:eu-repo/semantics/openAccess Excepto donde se diga explícitamente, este item se publica bajo la siguiente descripción: Creative Commons Attribution-NonCommercial-ShareAlike 2.5 Unported (CC BY-NC-SA 2.5)
Identificadores
URI: http://hdl.handle.net/11336/35014
DOI: http://dx.doi.org/10.1016/j.susc.2009.09.022
URL: https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0039602809006190
Colecciones
Articulos(INTEMA)
Articulos de INST.DE INV.EN CIENCIA Y TECNOL.MATERIALES (I)
Citación
Mirabella, D. A.; Suarez, Maria Patricia; Aldao, Celso Manuel; Hillock sizes after wet etching in silicon; Elsevier Science; Surface Science; 603; 23; 9-2009; 3346-3349
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