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Formation of pyramidal etch hillocks in a Kossel crystal

Suárez, M. P.; Mirabella, Maria Cristina; Aldao, Celso ManuelIcon
Fecha de publicación: 10/11/2005
Editorial: Elsevier Science
Revista: Surface Science
ISSN: 0039-6028
Idioma: Inglés
Tipo de recurso: Artículo publicado

Resumen

Surface roughening due to anisotropic etching was studied experimentally and modeled using the Monte Carlo method for a Kossel crystal.  Simulations were used to explore a possible formation mechanism for the appearance of etch hillocks in two and three dimensions.  Similarities with pyramidal etch hillocks that are regularly observed in anisotropic etching of Si(100) are discussed.
Palabras clave: Monte Carlo Simulations , Scanning Electron Microscopy , Etching , Surface Structure , Morphology , Roughness And Topography , Silicon , Koh
 
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Formato: PDF
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Identificadores
URI: http://hdl.handle.net/11336/28057
DOI: http://dx.doi.org/10.1016/j.susc.2005.10.011
URL: http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0039602805011337
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Citación
Suárez, M. P.; Mirabella, Maria Cristina; Aldao, Celso Manuel; Formation of pyramidal etch hillocks in a Kossel crystal; Elsevier Science; Surface Science; 599; 1-3; 10-11-2005; 221-229
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