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dc.contributor.author
García Cozzi, R.
dc.contributor.author
Redin, Eduardo Gabriel

dc.contributor.author
García Inza, Mariano Andrés

dc.contributor.author
Sambuco Salomone, Lucas Ignacio

dc.contributor.author
Faigon, Adrián Néstor

dc.contributor.author
Carbonetto, Sebastián Horacio

dc.date.available
2023-09-20T16:28:29Z
dc.date.issued
2022-10
dc.identifier.citation
García Cozzi, R.; Redin, Eduardo Gabriel; García Inza, Mariano Andrés; Sambuco Salomone, Lucas Ignacio; Faigon, Adrián Néstor; et al.; Influence of Interface Traps on MOSFET thermal coefficients and its effects on the ZTC current; Pergamon-Elsevier Science Ltd; Microelectronics Reliability; 137; 10-2022; 1-8
dc.identifier.issn
0026-2714
dc.identifier.uri
http://hdl.handle.net/11336/212369
dc.description.abstract
Interface degradation-induced shifts of MOSFET thermal coefficients and zero temperature coefficient current (IZTC) were studied by monitoring the interface traps (Nit) growth in a thick oxide n-channel MOSFET due to exposure to ionizing radiation, and to further annealing at room temperature. A new physics-based compact model was proposed to account for the observed results, and to predict the evolution of these parameters as interface traps are generated during stress. Within a range (0–40∘C) around room temperature, both the inverse of the mobility and the threshold voltage thermal coefficient varied roughly linear with Nit, with relative variations of 5.2×10−13eVcm2 and −9.33×10−13eVcm2, respectively. Furthermore, the dependence for IZTC with Nit can also be approximated to a linear expression, with a relative increment of 1.94×10−12eVcm2. The implications for temperature error mitigation in MOS sensors were discussed.
dc.format
application/pdf
dc.language.iso
eng
dc.publisher
Pergamon-Elsevier Science Ltd

dc.rights
info:eu-repo/semantics/restrictedAccess
dc.rights
Atribución-NoComercial-CompartirIgual 2.5 Argentina (CC BY-NC-SA 2.5 AR)
dc.rights.uri
https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar/
dc.subject
INTERFACE TRAPS
dc.subject
MOS SENSORS
dc.subject
MOS THERMAL COEFFICIENTS
dc.subject.classification
Ingeniería Eléctrica y Electrónica

dc.subject.classification
Ingeniería Eléctrica, Ingeniería Electrónica e Ingeniería de la Información

dc.subject.classification
INGENIERÍAS Y TECNOLOGÍAS

dc.title
Influence of Interface Traps on MOSFET thermal coefficients and its effects on the ZTC current
dc.type
info:eu-repo/semantics/article
dc.type
info:ar-repo/semantics/artículo
dc.type
info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.date.updated
2023-07-07T22:54:04Z
dc.journal.volume
137
dc.journal.pagination
1-8
dc.journal.pais
Estados Unidos

dc.description.fil
Fil: García Cozzi, R.. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Houssay. Instituto de Tecnologías y Ciencias de la Ingeniería "Hilario Fernández Long". Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Instituto de Tecnologías y Ciencias de la Ingeniería "Hilario Fernández Long"; Argentina
dc.description.fil
Fil: Redin, Eduardo Gabriel. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Houssay. Instituto de Tecnologías y Ciencias de la Ingeniería "Hilario Fernández Long". Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Instituto de Tecnologías y Ciencias de la Ingeniería "Hilario Fernández Long"; Argentina
dc.description.fil
Fil: García Inza, Mariano Andrés. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Houssay. Instituto de Tecnologías y Ciencias de la Ingeniería "Hilario Fernández Long". Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Instituto de Tecnologías y Ciencias de la Ingeniería "Hilario Fernández Long"; Argentina
dc.description.fil
Fil: Sambuco Salomone, Lucas Ignacio. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Houssay. Instituto de Tecnologías y Ciencias de la Ingeniería "Hilario Fernández Long". Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Instituto de Tecnologías y Ciencias de la Ingeniería "Hilario Fernández Long"; Argentina
dc.description.fil
Fil: Faigon, Adrián Néstor. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Houssay. Instituto de Tecnologías y Ciencias de la Ingeniería "Hilario Fernández Long". Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Instituto de Tecnologías y Ciencias de la Ingeniería "Hilario Fernández Long"; Argentina
dc.description.fil
Fil: Carbonetto, Sebastián Horacio. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Houssay. Instituto de Tecnologías y Ciencias de la Ingeniería "Hilario Fernández Long". Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Instituto de Tecnologías y Ciencias de la Ingeniería "Hilario Fernández Long"; Argentina
dc.journal.title
Microelectronics Reliability

dc.relation.alternativeid
info:eu-repo/semantics/altIdentifier/url/https://linkinghub.elsevier.com/retrieve/pii/S0026271422002761
dc.relation.alternativeid
info:eu-repo/semantics/altIdentifier/doi/http://dx.doi.org/10.1016/j.microrel.2022.114752
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