Estadísticas de visualización y descarga
Número total de visitas
desde el momento de su depósito en el Repositorio CONICET Digital
| Título | Visualizaciones | Descargas |
|---|---|---|
| Electrical characteristics of metal-insulator-semiconductor structures with atomic layer deposited Al2 O3, HfO2, and nanolaminates on different silicon substrates | 10 | 54 |
Visitas al mes
de los últimos 6 meses
Cantidad de accesos por país
| Visualizaciones | |
|---|---|
| Holanda | 3 |
| Estados Unidos | 3 |
| Argentina | 2 |
| España | 2 |
Cantidad de accesos por ciudad
| Visualizaciones | |
|---|---|
| Lanus | 2 |
| San Ramon | 2 |
| Ashburn | 1 |
| Barcelona | 1 |
| Sin datos* | 4 |
*Sin datos: En origen no se informa País o Ciudad.