Estadísticas de visualización y descarga
Número total de visitas
desde el momento de su depósito en el Repositorio CONICET Digital
| Título | Visualizaciones | Descargas |
|---|---|---|
| Electrical characteristics of metal-insulator-semiconductor structures with atomic layer deposited Al2 O3, HfO2, and nanolaminates on different silicon substrates | 25 | 60 |
Visitas al mes
de los últimos 6 meses
| noviembre 2024 | diciembre 2024 |
|---|---|
| 4 | 11 |
Cantidad de accesos por país
| Visualizaciones | |
|---|---|
| Estados Unidos | 15 |
| Holanda | 3 |
| Argentina | 2 |
| Suiza | 2 |
| España | 2 |
| Rusia | 1 |
Cantidad de accesos por ciudad
| Visualizaciones | |
|---|---|
| Columbus | 3 |
| Lanus | 2 |
| San Ramon | 2 |
| Ashburn | 1 |
| Barcelona | 1 |
| Boydton | 1 |
| Seattle | 1 |
| Sin datos* | 14 |
*Sin datos: En origen no se informa País o Ciudad.