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Título | Visualizaciones | Descargas |
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Electrical characteristics of metal-insulator-semiconductor structures with atomic layer deposited Al2 O3, HfO2, and nanolaminates on different silicon substrates | 10 | 54 |
Visitas al mes
de los últimos 6 meses
Cantidad de accesos por país
Visualizaciones | |
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Holanda | 3 |
Estados Unidos | 3 |
Argentina | 2 |
España | 2 |
Cantidad de accesos por ciudad
Visualizaciones | |
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Lanus | 2 |
San Ramon | 2 |
Ashburn | 1 |
Barcelona | 1 |
Sin datos* | 4 |
*Sin datos: En origen no se informa País o Ciudad.