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Artículo

Hard X-ray dosimetry of a plasma focus suitable for industrial radiography

Knoblauch, PabloIcon ; Raspa, Veronica DianaIcon ; Di Lorenzo, Francisco JavierIcon ; Clausse, AlejandroIcon ; Moreno, Cesar HugoIcon
Fecha de publicación: 04/2018
Editorial: Pergamon-Elsevier Science Ltd
Revista: Radiation Physics and Chemistry (Oxford)
ISSN: 0969-806X
Idioma: Inglés
Tipo de recurso: Artículo publicado
Clasificación temática:
Ingeniería Nuclear

Resumen

Dosimetric measurements of the hard X-ray emission by a small-chamber 4.7 kJ Mather-type plasma focus device capable of producing neat radiographs of metallic objects, were carried out with a set of thermoluminescent detectors TLD 700 (LiF:Mg,Ti). Measurements of the hard X-ray dose dependence with the angular position relative to the electrodes axis, are presented. The source-detector distance was changed in the range from 50 to 100 cm, and the angular positions were explored between ± 70° relative to the symmetry axis of the electrodes. On-axis measurements show that the X-ray intensity is uniform within a half aperture angle of 6° in which the source delivers an average dose of (1.5 ± 0.1) mGy/sr per shot. Monte Carlo calculations suggest that the energy of the electron beam responsible for the X-ray emission ranges 100–600 keV.
Palabras clave: Plasma Focus , Dosimetry , Radiation , Radiography
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info:eu-repo/semantics/openAccess Excepto donde se diga explícitamente, este item se publica bajo la siguiente descripción: Atribución-NoComercial-SinDerivadas 2.5 Argentina (CC BY-NC-ND 2.5 AR)
Identificadores
URI: http://hdl.handle.net/11336/96319
URL: https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0969806X1630514X
DOI: http://dx.doi.org/10.1016/j.radphyschem.2017.12.014
Colecciones
Articulos(CCT - TANDIL)
Articulos de CTRO CIENTIFICO TECNOLOGICO CONICET - TANDIL
Articulos(INFINA)
Articulos de INST.DE FISICA DEL PLASMA
Citación
Knoblauch, Pablo; Raspa, Veronica Diana; Di Lorenzo, Francisco Javier; Clausse, Alejandro; Moreno, Cesar Hugo; Hard X-ray dosimetry of a plasma focus suitable for industrial radiography; Pergamon-Elsevier Science Ltd; Radiation Physics and Chemistry (Oxford); 145; 4-2018; 39-42
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