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Artículo

Curvature as a Guiding Field for Patterns in Thin Block Copolymer Films

Vu, Giang Thi; Abate, Anabella AngelaIcon ; Gomez, Leopoldo RaimundoIcon ; Pezzutti, Aldo DanielIcon ; Register, Richard A.; Vega, Daniel AlbertoIcon ; Schmid, Friederike
Fecha de publicación: 21/08/2018
Editorial: American Physical Society
Revista: Physical Review Letters
ISSN: 0031-9007
Idioma: Inglés
Tipo de recurso: Artículo publicado
Clasificación temática:
Física de los Materiales Condensados

Resumen

Experimental data on thin films of cylinder-forming block copolymers (BC)—free-standing BCmembranes as well as supported BC films—strongly suggest that the local orientation of the BC patternsis coupled to the geometry in which the patterns are embedded. We analyze this phenomenon using generalsymmetry considerations and numerical self-consistent field studies of curved BC films in cylindricalgeometry. The stability of the films against curvature-induced dewetting is also analyzed. In goodagreement with experiments, we find that the BC cylinders tend to align along the direction of curvature athigh curvatures. At low curvatures, we identify a transition from perpendicular to parallel alignment insupported films, which is absent in free-standing membranes. Hence both experiments and theory show thatcurvature can be used to manipulate and align BC patterns.
Palabras clave: COPOLYMERS , BUCKLING , TOPOLOGICAL DEFECTS
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info:eu-repo/semantics/openAccess Excepto donde se diga explícitamente, este item se publica bajo la siguiente descripción: Creative Commons Attribution 2.5 Unported (CC BY 2.5)
Identificadores
URI: http://hdl.handle.net/11336/92493
URL: https://journals.aps.org/prl/abstract/10.1103/PhysRevLett.121.087801
DOI: http://dx.doi.org/10.1103/PhysRevLett.121.087801
URL: https://arxiv.org/abs/1802.10005
Colecciones
Articulos(IFISUR)
Articulos de INSTITUTO DE FISICA DEL SUR
Citación
Vu, Giang Thi; Abate, Anabella Angela; Gomez, Leopoldo Raimundo; Pezzutti, Aldo Daniel; Register, Richard A.; et al.; Curvature as a Guiding Field for Patterns in Thin Block Copolymer Films; American Physical Society; Physical Review Letters; 121; 8; 21-8-2018; 878011-878016
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