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dc.contributor.author
Marchi, María Claudia  
dc.contributor.author
Aldabe, Sara Alfonsina  
dc.contributor.author
Ribeiro, C. T. M.  
dc.contributor.author
Ochoa, E. A.  
dc.contributor.author
Kleinke, M.  
dc.contributor.author
Alvarez, F.  
dc.date.available
2019-09-18T19:50:37Z  
dc.date.issued
2010-09  
dc.identifier.citation
Marchi, María Claudia; Aldabe, Sara Alfonsina; Ribeiro, C. T. M.; Ochoa, E. A.; Kleinke, M.; et al.; A comprehensive study of the influence of the stoichiometry on the physical properties of TiO x films prepared by ion beam deposition; American Institute of Physics; Journal of Applied Physics; 108; 6; 9-2010; 64912-64919  
dc.identifier.issn
0021-8979  
dc.identifier.uri
http://hdl.handle.net/11336/83872  
dc.description.abstract
A comprehensive study of nonstoichiometry titanium oxide thin films (TiO x , 0.3≤x≤2) prepared by ion beam deposition technique is reported. The physical properties of the material are studied by ultraviolet and x-ray photoelectron, Raman, and Fourier transform infrared spectroscopies, and atomic force microscopy. An abrupt transition from metallic characteristics to a wide gap semiconductor is observed in a very narrow range of oxygen variation. Concomitantly with this change the crystal structure and morphology suffer remarkable physical properties modifications. This transformation is ascribed to surface-volume energy minimization due to the influence of oxygen determining the size of the TiO 2 particles during coalescence.  
dc.format
application/pdf  
dc.language.iso
eng  
dc.publisher
American Institute of Physics  
dc.rights
info:eu-repo/semantics/openAccess  
dc.rights.uri
https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar/  
dc.subject
Tio2  
dc.subject
Thin Film  
dc.subject
Ion Beam Deposition  
dc.subject
Xps  
dc.subject.classification
Física de los Materiales Condensados  
dc.subject.classification
Ciencias Físicas  
dc.subject.classification
CIENCIAS NATURALES Y EXACTAS  
dc.title
A comprehensive study of the influence of the stoichiometry on the physical properties of TiO x films prepared by ion beam deposition  
dc.type
info:eu-repo/semantics/article  
dc.type
info:ar-repo/semantics/artículo  
dc.type
info:eu-repo/semantics/publishedVersion  
dc.date.updated
2019-06-11T18:16:05Z  
dc.journal.volume
108  
dc.journal.number
6  
dc.journal.pagination
64912-64919  
dc.journal.pais
Estados Unidos  
dc.journal.ciudad
Nueva York  
dc.description.fil
Fil: Marchi, María Claudia. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía; Argentina. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Departamento de Química Inorgánica, Analítica y Química Física; Argentina  
dc.description.fil
Fil: Aldabe, Sara Alfonsina. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía; Argentina. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Departamento de Química Inorgánica, Analítica y Química Física; Argentina  
dc.description.fil
Fil: Ribeiro, C. T. M.. Universidade de Sao Paulo; Brasil  
dc.description.fil
Fil: Ochoa, E. A.. Universidade Estadual de Campinas; Brasil  
dc.description.fil
Fil: Kleinke, M.. Universidade Estadual de Campinas; Brasil  
dc.description.fil
Fil: Alvarez, F.. Universidade Estadual de Campinas; Brasil  
dc.journal.title
Journal of Applied Physics  
dc.relation.alternativeid
info:eu-repo/semantics/altIdentifier/doi/https://doi.org/10.1063/1.3481442  
dc.relation.alternativeid
info:eu-repo/semantics/altIdentifier/url/https://aip.scitation.org/doi/10.1063/1.3481442