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Artículo

Enhanced energy deposition efficiency of glow discharge electron beams for metal surface treatment

Mingolo, Nelida; Cesa, Yanina; Martínez, Oscar EduardoIcon ; Etcheverry, Javier Ignacio; Rocca, Jorge J.
Fecha de publicación: 04/2000
Editorial: Institute of Electrical and Electronics Engineers
Revista: IEEE Transactions on Plasma Science
ISSN: 0093-3813
Idioma: Inglés
Tipo de recurso: Artículo publicado
Clasificación temática:
Recubrimientos y Películas

Resumen

The energy deposition efficiency and focal spot dynamics of electron beams produced by pulsed cold-cathode high-voltage glow discharges for metal surface treatment are investigated for two different cathode geometries. A concave cathode geometry in which the focusing is dominated by the convergence of the electric field lines in the cathode fall region is compared with a flat cathode in which the focusing is exclusively caused by the self-generated magnetic field. Results of the treatment of AISI 4140 carbon steel samples show that the concave cathode geometry significantly increases the efficiency, reduces the threshold power necessary for melting, and is less sensitive to variations in the discharge parameters and sample position. The results of numerical modeling indicate that the observed increase in efficiency is caused by the longer persistence of the focal spot on the sample. The model can be used to predict the discharge parameters required for a desired treatment.
Palabras clave: Electron Beam
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info:eu-repo/semantics/openAccess Excepto donde se diga explícitamente, este item se publica bajo la siguiente descripción: Creative Commons Attribution-NonCommercial-ShareAlike 2.5 Unported (CC BY-NC-SA 2.5)
Identificadores
URI: http://hdl.handle.net/11336/71806
URL: https://ieeexplore.ieee.org/document/848097
DOI: http://dx.doi.org/10.1109/27.848097
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Citación
Mingolo, Nelida; Cesa, Yanina; Martínez, Oscar Eduardo; Etcheverry, Javier Ignacio; Rocca, Jorge J.; Enhanced energy deposition efficiency of glow discharge electron beams for metal surface treatment; Institute of Electrical and Electronics Engineers; IEEE Transactions on Plasma Science; 28; 2; 4-2000; 386-393
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