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dc.contributor.author
Franceschini, Esteban Andrés
dc.contributor.author
de la Llave, Ezequiel Pablo
dc.contributor.author
Williams, Federico José
dc.contributor.author
Soler Illia, Galo Juan de Avila Arturo
dc.date.available
2018-03-12T20:29:27Z
dc.date.issued
2016-02
dc.identifier.citation
Franceschini, Esteban Andrés; de la Llave, Ezequiel Pablo; Williams, Federico José; Soler Illia, Galo Juan de Avila Arturo; A simple three step method for selective placement of organic groups in mesoporous silica thin films; Elsevier Science Sa; Materials Chemistry and Physics; 169; 2-2016; 82-88
dc.identifier.issn
0254-0584
dc.identifier.uri
http://hdl.handle.net/11336/38607
dc.description.abstract
Selective functionalization of mesoporous silica thin films was achieved using a three step method. The first step consists in an outer surface functionalization, followed by washing off the structuring agent (second step), leaving the inner surface of the pores free to be functionalized in the third step. This reproducible method permits to anchor a volatile silane group in the outer film surface, and a second type of silane group in the inner surface of the pores. As a concept test we modified the outer surface of a mesoporous silica film with trimethylsilane (-Si-(CH3)3) groups and the inner pore surface with propylamino (-Si-(CH2)3-NH2) groups. The obtained silica films were characterized by Environmental Ellipsometric Porosimetry (EEP), EDS, XPS, contact angle and electron microscopy. The selectively functionalized silica (SF) shows an amount of surface amino functions 4.3 times lower than the one-step functionalized (OSF) silica samples. The method presented here can be extended to a combination of silane chlorides and alkoxides as functional groups, opening up a new route toward the synthesis of multifunctional mesoporous thin films with precisely localized organic functions.
dc.format
application/pdf
dc.language.iso
eng
dc.publisher
Elsevier Science Sa
dc.rights
info:eu-repo/semantics/openAccess
dc.rights.uri
https://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/2.5/ar/
dc.subject
Nanostructures
dc.subject
Sol-Gel Growth
dc.subject
Surface Properties
dc.subject
Thin Films
dc.subject
Vapor Deposition
dc.subject
X-Ray Photo-Emission Spectroscopy (Xps)
dc.subject.classification
Otras Ciencias Químicas
dc.subject.classification
Ciencias Químicas
dc.subject.classification
CIENCIAS NATURALES Y EXACTAS
dc.title
A simple three step method for selective placement of organic groups in mesoporous silica thin films
dc.type
info:eu-repo/semantics/article
dc.type
info:ar-repo/semantics/artículo
dc.type
info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.date.updated
2018-03-09T18:59:02Z
dc.journal.volume
169
dc.journal.pagination
82-88
dc.journal.pais
Países Bajos
dc.journal.ciudad
Amsterdam
dc.description.fil
Fil: Franceschini, Esteban Andrés. Comisión Nacional de Energía Atómica. Centro Atómico Constituyentes; Argentina. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas; Argentina
dc.description.fil
Fil: de la Llave, Ezequiel Pablo. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía; Argentina
dc.description.fil
Fil: Williams, Federico José. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía; Argentina
dc.description.fil
Fil: Soler Illia, Galo Juan de Avila Arturo. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía; Argentina. Universidad Nacional de San Martin. Instituto de Nanosistemas; Argentina
dc.journal.title
Materials Chemistry and Physics
dc.relation.alternativeid
info:eu-repo/semantics/altIdentifier/doi/http://dx.doi.org/10.1016/j.matchemphys.2015.11.033
dc.relation.alternativeid
info:eu-repo/semantics/altIdentifier/url/https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0254058415304600
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