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dc.contributor.author
Rubi, Diego
dc.contributor.author
Kalstein, Ariel
dc.contributor.author
Roman Acevedo, Wilson Stibens
dc.contributor.author
Ghenzi, Néstor
dc.contributor.author
Quinteros, Cynthia Paula
dc.contributor.author
Mangano, E.
dc.contributor.author
Granell, Pablo Nicolás
dc.contributor.author
Golmar, Federico
dc.contributor.author
Marlasca, F. G.
dc.contributor.author
Suarez, Sergio Gabriel
dc.contributor.author
Bernardi, Guillermo Carlos
dc.contributor.author
Albornoz, C.
dc.contributor.author
Leyva de Guglielmino, Ana Gabriela
dc.contributor.author
Levy, Pablo Eduardo
dc.date.available
2018-03-09T13:40:21Z
dc.date.issued
2015-03
dc.identifier.citation
Rubi, Diego; Kalstein, Ariel; Roman Acevedo, Wilson Stibens; Ghenzi, Néstor; Quinteros, Cynthia Paula; et al.; Manganite based memristors: Influence of the electroforming polarity on the electrical behavior and radiation hardness; Elsevier Science Sa; Thin Solid Films; 583; 1; 3-2015; 76-80
dc.identifier.issn
0040-6090
dc.identifier.uri
http://hdl.handle.net/11336/38388
dc.description.abstract
We report on the fabrication and characterization of La2/3Ca1/3MnO3 manganite-based memristive devices. Polycrystalline manganite thin films were grown by Pulsed Laser Deposition, while metallic electrodes were deposited by sputtering. We show that, depending on the polarity of the initial electroforming, both clockwise and anti-clockwise current-voltage curves can be obtained. We attribute this behavior to the coexistence of different resistive switchingmechanisms.We finally evaluate the electrical behavior of our devices after irradiation with high energy oxygen ions. We find no significant difference in the dielectric breakdown voltages between irradiated and non-irradiated devices, indicating that they may present radiation hardness and could be therefore appropriate for space or nuclear applications.
dc.format
application/pdf
dc.language.iso
eng
dc.publisher
Elsevier Science Sa
dc.rights
info:eu-repo/semantics/openAccess
dc.rights.uri
https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar/
dc.subject
Oxide Thin Films
dc.subject
Radiation Hardness
dc.subject
Resistive Random Access Memory
dc.subject.classification
Astronomía
dc.subject.classification
Ciencias Físicas
dc.subject.classification
CIENCIAS NATURALES Y EXACTAS
dc.title
Manganite based memristors: Influence of the electroforming polarity on the electrical behavior and radiation hardness
dc.type
info:eu-repo/semantics/article
dc.type
info:ar-repo/semantics/artículo
dc.type
info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.date.updated
2018-03-08T19:01:40Z
dc.journal.volume
583
dc.journal.number
1
dc.journal.pagination
76-80
dc.journal.pais
Países Bajos
dc.journal.ciudad
Amsterdam
dc.description.fil
Fil: Rubi, Diego. Comisión Nacional de Energía Atómica. Gerencia del Área Investigaciones y Aplicaciones no Nucleares; Argentina. Universidad Nacional de San Martín. Escuela de Ciencia y Tecnología; Argentina. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas; Argentina
dc.description.fil
Fil: Kalstein, Ariel. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas; Argentina. Comisión Nacional de Energía Atómica. Gerencia del Área Investigaciones y Aplicaciones no Nucleares; Argentina
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Fil: Roman Acevedo, Wilson Stibens. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas; Argentina. Comisión Nacional de Energía Atómica. Gerencia del Área Investigaciones y Aplicaciones no Nucleares; Argentina
dc.description.fil
Fil: Ghenzi, Néstor. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas; Argentina. Comisión Nacional de Energía Atómica. Gerencia del Área Investigaciones y Aplicaciones no Nucleares; Argentina
dc.description.fil
Fil: Quinteros, Cynthia Paula. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas; Argentina. Comisión Nacional de Energía Atómica. Gerencia del Área Investigaciones y Aplicaciones no Nucleares; Argentina
dc.description.fil
Fil: Mangano, E.. Instituto Nacional de Tecnología Industrial. Centro de Micro y Nanoelectrónica del Bicentenario. Unidad Técnica de Micro y Nano Sistemas; Argentina
dc.description.fil
Fil: Granell, Pablo Nicolás. Instituto Nacional de Tecnología Industrial. Centro de Micro y Nanoelectrónica del Bicentenario. Unidad Técnica de Micro y Nano Sistemas; Argentina
dc.description.fil
Fil: Golmar, Federico. Universidad Nacional de San Martín. Escuela de Ciencia y Tecnología; Argentina. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas; Argentina. Instituto Nacional de Tecnología Industrial. Centro de Micro y Nanoelectrónica del Bicentenario. Unidad Técnica de Micro y Nano Sistemas; Argentina
dc.description.fil
Fil: Marlasca, F. G.. Comisión Nacional de Energía Atómica. Gerencia del Área Investigaciones y Aplicaciones no Nucleares; Argentina
dc.description.fil
Fil: Suarez, Sergio Gabriel. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas; Argentina. Comisión Nacional de Energía Atómica. Gerencia del Área Investigaciones y Aplicaciones no Nucleares; Argentina
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Fil: Bernardi, Guillermo Carlos. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas; Argentina. Comisión Nacional de Energía Atómica. Gerencia del Área Investigaciones y Aplicaciones no Nucleares; Argentina
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Fil: Albornoz, C.. Comisión Nacional de Energía Atómica. Gerencia del Área Investigaciones y Aplicaciones no Nucleares; Argentina
dc.description.fil
Fil: Leyva de Guglielmino, Ana Gabriela. Universidad Nacional de San Martín. Escuela de Ciencia y Tecnología; Argentina. Comisión Nacional de Energía Atómica. Gerencia del Área Investigaciones y Aplicaciones no Nucleares; Argentina
dc.description.fil
Fil: Levy, Pablo Eduardo. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas; Argentina. Comisión Nacional de Energía Atómica. Gerencia del Área Investigaciones y Aplicaciones no Nucleares; Argentina
dc.journal.title
Thin Solid Films
dc.relation.alternativeid
info:eu-repo/semantics/altIdentifier/url/http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0040609015002643
dc.relation.alternativeid
info:eu-repo/semantics/altIdentifier/doi/http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2015.03.048
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