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Artículo

Ionic exchange of Hf donor impurities in the wide-gap semiconductor Tm2O3

Muñoz, Emiliano LuisIcon ; Darriba, German NicolasIcon ; Bibiloni, Anibal GuillermoIcon ; Errico, Leonardo AntonioIcon ; Rentería, MarioIcon
Fecha de publicación: 04/2010
Editorial: Elsevier Science SA
Revista: Journal of Alloys and Compounds
ISSN: 0925-8388
Idioma: Inglés
Tipo de recurso: Artículo publicado
Clasificación temática:
Física de los Materiales Condensados

Resumen

The ionic exchange of Hf donor impurities in substitutional cationic sites of the cubic (bixbyite) phase of the wide-gap semiconductor Tm2O3 was studied. The doping process was performed by ball-milling-assisted solid-state reaction of Tm2O3 and neutron-activated m-HfO2. 181Ta atoms, obtained by the -decay of the 181Hf-isotope, were used as probes in time-differential perturbed-angular-correlation (TDPAC) experiments carried out after each step of the doping process. The measured hyperfine interactions at 181Ta sites enabled the electric-field gradient (EFG) characterization at representative Hf impurity sites of each step of the process. The efficiency and substitutional character of the exchange process is discussed and elucidated in the framework of an empirical EFG systematic established in isostructural rare-earth bixbyite sesquioxides.
Palabras clave: MECHANICAL ALLOYING , IMPURITIES IN SEMICONDUCTORS , HYPERFINE INTERACTIONS , IONIC DIFFUSION
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info:eu-repo/semantics/openAccess Excepto donde se diga explícitamente, este item se publica bajo la siguiente descripción: Creative Commons Attribution-NonCommercial-ShareAlike 2.5 Unported (CC BY-NC-SA 2.5)
Identificadores
URI: http://hdl.handle.net/11336/275499
DOI: http://dx.doi.org/10.1016/j.jallcom.2009.10.038
Colecciones
Articulos(IFLP)
Articulos de INST.DE FISICA LA PLATA
Citación
Muñoz, Emiliano Luis; Darriba, German Nicolas; Bibiloni, Anibal Guillermo; Errico, Leonardo Antonio; Rentería, Mario; Ionic exchange of Hf donor impurities in the wide-gap semiconductor Tm2O3; Elsevier Science SA; Journal of Alloys and Compounds; 495; 2; 4-2010; 532-536
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