Artículo

Diffusion study of 15N implanted into α-Ti using the nuclear resonance technique

Bregolin, F. L.; Behar, M.; Dyment, FannyIcon
Fecha de publicación: 09/2007
Editorial: Springer
Revista: Applied Physics A: Materials Science and Processing
ISSN: 0721-7250
e-ISSN: 0947-8396
Idioma: Inglés
Tipo de recurso: Artículo publicado
Clasificación temática:

Resumen

The diffusion of  15 N in a-Ti was studied in the 673-1023 K temperature range by using ion implantation and nuclear resonance techniques. The measurements show that the diffusion coefficients follow an Arrhenius behaviour D(T) = D0 exp (-Q/RT) where D0 = (1.1 ± 0.8) x 10-7 m2 s-1 and Q = (183 ± 2) kJ/mol. A comparison with previous results  is also given.
Palabras clave: DIFFUSION , NUCLEAR , RESONANCE , TECHNIQUE
 
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Tamaño: 287.4Kb
Formato: PDF
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Identificadores
URI: http://hdl.handle.net/11336/244722
URL: https://link.springer.com/article/10.1007/s00339-007-4280-6
DOI: http://dx.doi.org/10.1007/s00339-007-4280-6
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Citación
Bregolin, F. L.; Behar, M.; Dyment, Fanny; Diffusion study of 15N implanted into α-Ti using the nuclear resonance technique; Springer; Applied Physics A: Materials Science and Processing; 90; 2; 9-2007; 347-349
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