Fabricación de micro y nanoporos sobre sustratos de silicio por método electroquimico

Abstract

En los últimos años ha salido al mercado el primer secuenciador de ADN basado en nanoporos [1], que cabe en la palma de una mano, tiene la capacidad de leer fragmentos de hasta 100 kb y no requiere amplificación por PCR, entre otras cualidades. Por su bajo costo, este dispositivo promete revolucionar el campo de la secuenciación de ADN y la medicina, y muestra la importancia de investigar en un área como la de los nanoporos y su aporte al campo de la nanociencia y la nanotecnología. En el presente trabajo se muestran resultados correspondientes al estudio del proceso de fabricación de micro y nanoporos de estado sólido, mediante la técnica de grabado húmedo (wet etching) sobre obleas de silicio cristalino [2]. Se realiza una caracterización exhaustiva del método, analizando el comportamiento del agente de ataque, y la acción de diferentes agentes de frenado bajo distintas condiciones de temperatura (64 y 84 ºC) y voltaje (0.1, 0.5, 1 V). Se muestran mediciones de la evolución temporal de las corrientes, registradas durante el proceso de formación de poros para distintas obleas. De esta manera, se reconocen diferentes etapas en el comido y se determinan posibles parámetros y relaciones de utilidad para la detección del momento de apertura. También se estudia la respuesta al potencial aplicado durante el proceso de ataque químico, analizando el efecto de la magnitud de dicho potencial sobre la velocidad de ataque, de neutralización y el diámetro medio de los poros obtenidos durante el proceso.