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dc.contributor.author
Avellaneda, Manuel
dc.contributor.author
Boasso, Andrés
dc.contributor.author
Sirena, Martin
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dc.contributor.author
Roa Díaz, Simón Andre
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dc.date.available
2024-02-27T11:32:02Z
dc.date.issued
2023-10
dc.identifier.citation
Avellaneda, Manuel; Boasso, Andrés; Sirena, Martin; Roa Díaz, Simón Andre; Annealing effects on photoresist films' mechanical and chemical resistance; Elsevier; Surfaces and Interfaces; 41; 10-2023; 1-7
dc.identifier.issn
2468-0230
dc.identifier.uri
http://hdl.handle.net/11336/228516
dc.description.abstract
Nowadays, photoresist-based films are used by photolithography techniques for the fabrication of micro/nanodevices in the modern nanotechnology industry. The impact of thermal-induced polymerization on the mechanical resistance of these materials is critical for improving both the mechanical and the chemical performance. In this work, we present a systematic study of the annealing effects on the mechanical resistance (thermally-induced material hardening) of MICROPOSIT™ photoresist films. The mechanical properties were studied by depth-sensing nanoindentation technique using an atomic force microscope. Results show the films' plastic strain susceptibility decreases as the annealing temperature increases, implying an improvement of their mechanical resistance by thermal-induced polymerization. Strain energy dissipation coefficients decreased from 0.725 up to 0.525 as the annealing temperature was increased from 60 up to 200 °C, demonstrating this point. Indentation hardness results were consistent with this behavior, observing an increase from 0.12 up to 0.23 [GPa] for the highest annealing temperature. Annealing-induced hardening seems to be correlated with the films' resistance to wet chemical etching, observing higher chemical resistance for higher annealing temperatures. The observed increase of the mechanical and chemical resistance of the photoresists with annealing becomes of great importance for their application in the development of novel micro and nanostructures.
dc.format
application/pdf
dc.language.iso
eng
dc.publisher
Elsevier
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dc.rights
info:eu-repo/semantics/embargoedAccess
dc.rights.uri
https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar/
dc.subject
ATOMIC FORCE MICROSCOPY
dc.subject
DEPTH-SENSING NANOINDENTATION
dc.subject
MECHANICAL PROPERTIES
dc.subject
PHOTORESIST FILMS
dc.subject.classification
Recubrimientos y Películas
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dc.subject.classification
Ingeniería de los Materiales
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dc.subject.classification
INGENIERÍAS Y TECNOLOGÍAS
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dc.title
Annealing effects on photoresist films' mechanical and chemical resistance
dc.type
info:eu-repo/semantics/article
dc.type
info:ar-repo/semantics/artículo
dc.type
info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.date.updated
2024-02-26T16:00:18Z
dc.journal.volume
41
dc.journal.pagination
1-7
dc.journal.pais
Países Bajos
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dc.journal.ciudad
Amsterdam
dc.description.fil
Fil: Avellaneda, Manuel. Comisión Nacional de Energía Atómica. Gerencia del Área de Energía Nuclear. Instituto Balseiro; Argentina
dc.description.fil
Fil: Boasso, Andrés. Comisión Nacional de Energía Atómica. Gerencia del Área de Energía Nuclear. Instituto Balseiro; Argentina
dc.description.fil
Fil: Sirena, Martin. Consejo Nacional de Investigaciones Cientificas y Tecnicas. Oficina de Coordinacion Administrativa Ciudad Universitaria. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnologia. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnologia - Nodo Bariloche | Comision Nacional de Energia Atomica. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnologia. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnologia - Nodo Bariloche.; Argentina
dc.description.fil
Fil: Roa Díaz, Simón Andre. Consejo Nacional de Investigaciones Cientificas y Tecnicas. Oficina de Coordinacion Administrativa Ciudad Universitaria. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnologia. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnologia - Nodo Bariloche | Comision Nacional de Energia Atomica. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnologia. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnologia - Nodo Bariloche.; Argentina
dc.journal.title
Surfaces and Interfaces
dc.rights.embargoDate
2024-04-27
dc.relation.alternativeid
info:eu-repo/semantics/altIdentifier/url/https://linkinghub.elsevier.com/retrieve/pii/S2468023023005515
dc.relation.alternativeid
info:eu-repo/semantics/altIdentifier/doi/http://dx.doi.org/10.1016/j.surfin.2023.103181
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