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Artículo

A Kinetic Model for the degradation of DichIoroacetic Acid and Formic Acid in Water Employing the H2O2/UV Process

Mariani, Melisa LourdesIcon ; Brandi, Rodolfo JuanIcon ; Cassano, Alberto EnriqueIcon ; Zalazar, Cristina SusanaIcon
Fecha de publicación: 01/06/2013
Editorial: Elsevier
Revista: Chemical Engineering Journal
ISSN: 1385-8947
Idioma: Inglés
Tipo de recurso: Artículo publicado
Clasificación temática:
Química Analítica

Resumen

A kinetic model for the simultaneous degradation of dichloroacetic acid (DCAA) and formic acid (FA) has been developed. The oxidation is produced by the combination of hydrogen peroxide (HP) and UV (253.7 nm) radiation. A set of four equations, three differentials and one algebraic, represents the time evolution of the concentration of DCAA, FA, HP and hydrochloric acid (HCl), a measurable by-product. The model is based on a complete reaction mechanism, which comprises hydrogen peroxide photolysis and decomposition of dichloroacetic and formic acids. It takes into account the effect of non-uniform distribution of the local rate of absorbed photons. The mathematical model renders simulation results that agree with the experimental data. It was also shown that FA decays much faster than DCAA.
Palabras clave: Kinetics , Uv/H2o2 Process , Mixture of Dichloroacetic And Formic Acids , Modeling
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info:eu-repo/semantics/openAccess Excepto donde se diga explícitamente, este item se publica bajo la siguiente descripción: Creative Commons Attribution-NonCommercial-ShareAlike 2.5 Unported (CC BY-NC-SA 2.5)
Identificadores
URI: http://hdl.handle.net/11336/1963
URL: http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S1385894713004336
DOI: http://dx.doi.org/doi:10.1016/j.cej.2013.03.098
Colecciones
Articulos(INTEC)
Articulos de INST.DE DES.TECNOL.PARA LA IND.QUIMICA (I)
Citación
Mariani, Melisa Lourdes; Brandi, Rodolfo Juan; Cassano, Alberto Enrique; Zalazar, Cristina Susana; A Kinetic Model for the degradation of DichIoroacetic Acid and Formic Acid in Water Employing the H2O2/UV Process; Elsevier; Chemical Engineering Journal; 225; 1-6-2013; 423-432
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