Repositorio Institucional
Repositorio Institucional
CONICET Digital
  • Inicio
  • EXPLORAR
    • AUTORES
    • DISCIPLINAS
    • COMUNIDADES
  • Estadísticas
  • Novedades
    • Noticias
    • Boletines
  • Ayuda
    • General
    • Datos de investigación
  • Acerca de
    • CONICET Digital
    • Equipo
    • Red Federal
  • Contacto
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.
  • INFORMACIÓN GENERAL
  • RESUMEN
  • ESTADISTICAS
 
Artículo

Influence of argon pressure on the structural properties of polycrystalline sputtered Fe0.89Ga0.11 thin films

Ramírez, G. A.; Moya Riffo, Alvaro EstebanIcon ; Gómez, J. E.; Malamud, F.; Rodríguez, L. M.; Fregenal, Daniel EduardoIcon ; Bernardi, G.; Butera, Alejandro RicardoIcon ; Milano, JulianIcon
Fecha de publicación: 12/2020
Editorial: Elsevier Science Inc.
Revista: Materials Characterization
ISSN: 1044-5803
Idioma: Inglés
Tipo de recurso: Artículo publicado
Clasificación temática:
Física de los Materiales Condensados

Resumen

In this work, we present a systematic study on the relation between the elastic behavior and the structural properties of polycrystalline Fe0.89Ga0.11 thin films deposited on Si(100) substrates. By carrying out pole figure (PF) measurements, we determined the evolution of the texture components, residual stress and Young's modulus (Ys) as a function of the Ar pressure. The samples display several fiber-like texture components (where the fiber axes is always along the growth direction) beside to a random component; the texture component weights depend on the Ar pressure. The study of the residual stress reveals that the samples present a tensile stress, that relaxes when the Ar pressure increases. In the case of Ys, the estimated values vary slightly within the Ar pressure range studied. Finally, the residual stress and Ys behavior is correlated with the microstructure evolution by using the orientation distribution function (ODF) simulated from the PFs.
Palabras clave: CRYSTALLOGRAPHIC TEXTURE , FE1−XGAX ALLOYS , RESIDUAL STRESS , SPUTTERING PRESSURE , THIN FILMS
Ver el registro completo
 
Archivos asociados
Tamaño: 8.062Mb
Formato: PDF
.
Solicitar
Licencia
info:eu-repo/semantics/restrictedAccess Excepto donde se diga explícitamente, este item se publica bajo la siguiente descripción: Creative Commons Attribution-NonCommercial-ShareAlike 2.5 Unported (CC BY-NC-SA 2.5)
Identificadores
URI: http://hdl.handle.net/11336/182465
URL: https://www.sciencedirect.com/science/article/abs/pii/S1044580320322610?via%3Dih
DOI: http://dx.doi.org/10.1016/j.matchar.2020.110790
Colecciones
Articulos (UE-INN - NODO BARILOCHE)
Articulos de UNIDAD EJECUTORA INSTITUTO DE NANOCIENCIA Y NANOTECNOLOGIA - NODO BARILOCHE
Citación
Ramírez, G. A.; Moya Riffo, Alvaro Esteban; Gómez, J. E.; Malamud, F.; Rodríguez, L. M.; et al.; Influence of argon pressure on the structural properties of polycrystalline sputtered Fe0.89Ga0.11 thin films; Elsevier Science Inc.; Materials Characterization; 171; 12-2020; 1-9
Compartir
Altmétricas
 

Enviar por e-mail
Separar cada destinatario (hasta 5) con punto y coma.
  • Facebook
  • X Conicet Digital
  • Instagram
  • YouTube
  • Sound Cloud
  • LinkedIn

Los contenidos del CONICET están licenciados bajo Creative Commons Reconocimiento 2.5 Argentina License

https://www.conicet.gov.ar/ - CONICET

Inicio

Explorar

  • Autores
  • Disciplinas
  • Comunidades

Estadísticas

Novedades

  • Noticias
  • Boletines

Ayuda

Acerca de

  • CONICET Digital
  • Equipo
  • Red Federal

Contacto

Godoy Cruz 2290 (C1425FQB) CABA – República Argentina – Tel: +5411 4899-5400 repositorio@conicet.gov.ar
TÉRMINOS Y CONDICIONES