Deposición de hidrógeno a subpotencial sobre oro policristalino y con orientación preferida

Abstract

Se estudia la deposición de hidrógeno a potenciales menores que los correspondientes a la reacción de evolución de hidrógeno sobre oro policristalino cuya superficie ha sido preferentemente orientada según los tres planos de bajo índice. Varios procesos contribuyen a las corrientes anódica y catódica en la región de potenciales de carga de doble capa: la adsorción específica de aniones y su desorción, el levantamiento de la reconstrucción superficial, la oxidación del hidrógeno y la deposición de hidrógeno a subpotencial. Las alturas relativas de las distintas contribuciones de corriente cambian con la orientación preferencial. Los máximos correspondientes a la oxidación del hidrógeno depositado crecen continuamente mientras que aquéllos que corresponden al levantamiento de la reconstrucción superficial alcanzan una altura límite. Se concluye que es posible distinguir las contribuciones farádicas de aquéllas de origen capacitivo en la región de potenciales correspondiente a la carga de la doble capa en una solución de ácido sulfúrico 0.5 M.

Hydrogen deposition at lower potentials than those corresponding to the hydrogen evolution reaction on polycrystalline gold whose surface has been preferentially oriented according to the three low index planes, has been studied. Several processes contribute to the anodic and cathodic currents at the double layer charging potential region: the specific anion adsorption and desorption, the lift of surface reconstruction, the hydrogen oxidation and the hydrogen underpotential deposition. The relative heights of different current contributions change with the surface preferential orientation. The hydrogen oxidation peaks grow continuously while those corresponding to the lift of surface reconstruction reach a limited height. These facts allow distinguishing the faradic current contributions from the capacitive current contributions at the double layer charging potentials in 0.5 M sulphuric acid solution.