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Artículo

Pressure dependence of the silicon carbide synthesis temperature

Limandri, Silvina PaolaIcon ; Garbarino, G.; Sifre, D.; Mezouar, M.; Galván Josa, Víctor MartínIcon
Fecha de publicación: 26/04/2019
Editorial: American Institute of Physics
Revista: Journal of Applied Physics
ISSN: 0021-8979
Idioma: Inglés
Tipo de recurso: Artículo publicado
Clasificación temática:
Física de los Materiales Condensados

Resumen

The starting temperature for SiC synthesis from elemental silicon, carbon black, and graphite powders was determined for pressures ranging from 0.8 to 11 GPa by in situ X-ray diffraction experiments. The synthesized SiC corresponds to the cubic 3C phase with the presence of stacking faults along the [111] direction. The lowest density of the stacking faults is achieved when black carbon is used instead of graphite. The minimum temperature to start the Si + C → SiC reaction slightly decreases when the pressure is increased up to 6 GPa and the reaction begins before silicon melts. For pressures higher than 8 GPa, the starting temperature increases, and the formation of SiC from the SiII phase requires the complete melting of silicon. Bulk modulus Bo= 236(14) GPa was obtained for the synthesized SiC phase.
Palabras clave: SILICON CARBIDE , HIGH PRESSURE , X RAY DIFFRACTION
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info:eu-repo/semantics/openAccess Excepto donde se diga explícitamente, este item se publica bajo la siguiente descripción: Creative Commons Attribution-NonCommercial-ShareAlike 2.5 Unported (CC BY-NC-SA 2.5)
Identificadores
URI: http://hdl.handle.net/11336/124878
URL: https://aip.scitation.org/doi/10.1063/1.5085839
DOI: http://dx.doi.org/10.1063/1.5085839
Colecciones
Articulos(IFEG)
Articulos de INST.DE FISICA ENRIQUE GAVIOLA
Citación
Limandri, Silvina Paola; Garbarino, G.; Sifre, D.; Mezouar, M.; Galván Josa, Víctor Martín; Pressure dependence of the silicon carbide synthesis temperature; American Institute of Physics; Journal of Applied Physics; 125; 16; 26-4-2019; 165902
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