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dc.contributor.author
Lescano, Maia Raquel
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dc.contributor.author
López, Alejandro Omar
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dc.contributor.author
Romero, Roberto Leopoldo
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dc.contributor.author
Zalazar, Cristina Susana
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dc.date.available
2020-10-31T20:55:57Z
dc.date.issued
2020-09
dc.identifier.citation
Lescano, Maia Raquel; López, Alejandro Omar; Romero, Roberto Leopoldo; Zalazar, Cristina Susana; Degradation of chlorpyrifos formulation in water by the UV/H2O2 process: Lumped kinetic modelling of total organic carbon removal; Elsevier Science Sa; Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry; 404; 9-2020; 1-9
dc.identifier.issn
1010-6030
dc.identifier.uri
http://hdl.handle.net/11336/117347
dc.description.abstract
The degradation of a commercial chlorpyrifos (CP) formulation solution under the UV/H2O2 process was predicted through a lumped kinetics modelling approach (LKA). The proposed models are based on different reaction schemes that include the hydroxyl radical reaction rate with the Total Organic Carbon (TOC). TOC represents the concentration of the mixture of CP and “unknown organic matter”, both components present in CP formulation. TOC is one of the most practical parameter that can be used to quantify organic pollution in a complex matrix. A one-step model was selected and a second-order reaction rate constant between hydroxyl radical and TOC was obtained by optimization: 1.75 × 107 M−1 s−1. According to computed performance metrics, the chosen model well fitted the concentrations evolution of the reactants (TOC and H2O2). The model could be useful to predict the behaviour of reaction systems with different configuration for wastewater treatment applications.
dc.format
application/pdf
dc.language.iso
eng
dc.publisher
Elsevier Science Sa
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dc.rights
info:eu-repo/semantics/restrictedAccess
dc.rights.uri
https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar/
dc.subject
CHLORPYRIFOS FORMULATION
dc.subject
LUMPED KINETIC MODEL
dc.subject
TOTAL ORGANIC CARBON
dc.subject
UV/H2O2 PROCESS
dc.subject.classification
Otras Ingeniería del Medio Ambiente
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dc.subject.classification
Ingeniería del Medio Ambiente
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dc.subject.classification
INGENIERÍAS Y TECNOLOGÍAS
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dc.title
Degradation of chlorpyrifos formulation in water by the UV/H2O2 process: Lumped kinetic modelling of total organic carbon removal
dc.type
info:eu-repo/semantics/article
dc.type
info:ar-repo/semantics/artículo
dc.type
info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.date.updated
2020-10-19T16:16:57Z
dc.journal.volume
404
dc.journal.pagination
1-9
dc.journal.pais
Países Bajos
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dc.journal.ciudad
Amsterdam
dc.description.fil
Fil: Lescano, Maia Raquel. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Centro Científico Tecnológico Conicet - Santa Fe. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química. Universidad Nacional del Litoral. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química; Argentina
dc.description.fil
Fil: López, Alejandro Omar. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Centro Científico Tecnológico Conicet - Santa Fe. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química. Universidad Nacional del Litoral. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química; Argentina
dc.description.fil
Fil: Romero, Roberto Leopoldo. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Centro Científico Tecnológico Conicet - Santa Fe. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química. Universidad Nacional del Litoral. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química; Argentina
dc.description.fil
Fil: Zalazar, Cristina Susana. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Centro Científico Tecnológico Conicet - Santa Fe. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química. Universidad Nacional del Litoral. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química; Argentina
dc.journal.title
Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry
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dc.relation.alternativeid
info:eu-repo/semantics/altIdentifier/doi/https://doi.org/10.1016/j.jphotochem.2020.112924
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