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dc.contributor.author
Ramírez, G. A.  
dc.contributor.author
Moya Riffo, Alvaro Esteban  
dc.contributor.author
Gómez, J. E.  
dc.contributor.author
Malamud, F.  
dc.contributor.author
Rodríguez, L. M.  
dc.contributor.author
Fregenal, Daniel Eduardo  
dc.contributor.author
Bernardi, G.  
dc.contributor.author
Butera, Alejandro Ricardo  
dc.contributor.author
Milano, Julian  
dc.date.available
2022-12-27T12:19:23Z  
dc.date.issued
2020-12  
dc.identifier.citation
Ramírez, G. A.; Moya Riffo, Alvaro Esteban; Gómez, J. E.; Malamud, F.; Rodríguez, L. M.; et al.; Influence of argon pressure on the structural properties of polycrystalline sputtered Fe0.89Ga0.11 thin films; Elsevier Science Inc.; Materials Characterization; 171; 12-2020; 1-9  
dc.identifier.issn
1044-5803  
dc.identifier.uri
http://hdl.handle.net/11336/182465  
dc.description.abstract
In this work, we present a systematic study on the relation between the elastic behavior and the structural properties of polycrystalline Fe0.89Ga0.11 thin films deposited on Si(100) substrates. By carrying out pole figure (PF) measurements, we determined the evolution of the texture components, residual stress and Young's modulus (Ys) as a function of the Ar pressure. The samples display several fiber-like texture components (where the fiber axes is always along the growth direction) beside to a random component; the texture component weights depend on the Ar pressure. The study of the residual stress reveals that the samples present a tensile stress, that relaxes when the Ar pressure increases. In the case of Ys, the estimated values vary slightly within the Ar pressure range studied. Finally, the residual stress and Ys behavior is correlated with the microstructure evolution by using the orientation distribution function (ODF) simulated from the PFs.  
dc.format
application/pdf  
dc.language.iso
eng  
dc.publisher
Elsevier Science Inc.  
dc.rights
info:eu-repo/semantics/restrictedAccess  
dc.rights.uri
https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar/  
dc.subject
CRYSTALLOGRAPHIC TEXTURE  
dc.subject
FE1−XGAX ALLOYS  
dc.subject
RESIDUAL STRESS  
dc.subject
SPUTTERING PRESSURE  
dc.subject
THIN FILMS  
dc.subject.classification
Física de los Materiales Condensados  
dc.subject.classification
Ciencias Físicas  
dc.subject.classification
CIENCIAS NATURALES Y EXACTAS  
dc.title
Influence of argon pressure on the structural properties of polycrystalline sputtered Fe0.89Ga0.11 thin films  
dc.type
info:eu-repo/semantics/article  
dc.type
info:ar-repo/semantics/artículo  
dc.type
info:eu-repo/semantics/publishedVersion  
dc.date.updated
2022-12-27T11:04:30Z  
dc.journal.volume
171  
dc.journal.pagination
1-9  
dc.journal.pais
Estados Unidos  
dc.description.fil
Fil: Ramírez, G. A.. Comisión Nacional de Energía Atómica; Argentina  
dc.description.fil
Fil: Moya Riffo, Alvaro Esteban. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnología. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnología - Nodo Bariloche | Comisión Nacional de Energía Atómica. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnología. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnología - Nodo Bariloche; Argentina  
dc.description.fil
Fil: Gómez, J. E.. Comisión Nacional de Energía Atómica; Argentina  
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Fil: Malamud, F.. Comisión Nacional de Energía Atómica; Argentina  
dc.description.fil
Fil: Rodríguez, L. M.. Comisión Nacional de Energía Atómica; Argentina  
dc.description.fil
Fil: Fregenal, Daniel Eduardo. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnología. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnología - Nodo Bariloche | Comisión Nacional de Energía Atómica. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnología. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnología - Nodo Bariloche; Argentina  
dc.description.fil
Fil: Bernardi, G.. Comisión Nacional de Energía Atómica; Argentina  
dc.description.fil
Fil: Butera, Alejandro Ricardo. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnología. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnología - Nodo Bariloche | Comisión Nacional de Energía Atómica. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnología. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnología - Nodo Bariloche; Argentina  
dc.description.fil
Fil: Milano, Julian. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnología. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnología - Nodo Bariloche | Comisión Nacional de Energía Atómica. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnología. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnología - Nodo Bariloche; Argentina  
dc.journal.title
Materials Characterization  
dc.relation.alternativeid
info:eu-repo/semantics/altIdentifier/url/https://www.sciencedirect.com/science/article/abs/pii/S1044580320322610?via%3Dihub  
dc.relation.alternativeid
info:eu-repo/semantics/altIdentifier/doi/http://dx.doi.org/10.1016/j.matchar.2020.110790